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簡(jiǎn)要描述:半導(dǎo)體鍍層厚度檢測(cè)分析儀是專(zhuān)為半導(dǎo)體行業(yè)打造的精密檢測(cè)設(shè)備。它運(yùn)用先進(jìn)的檢測(cè)技術(shù),如X射線熒光光譜或橢偏測(cè)量等,能以高的精度,快速、無(wú)損地測(cè)量半導(dǎo)體芯片及器件上各類(lèi)鍍層厚度。儀器具備高分辨率和良好的重復(fù)性,可精準(zhǔn)捕捉微小厚度變化。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、研發(fā)等環(huán)節(jié),助力把控產(chǎn)品質(zhì)量,提升生產(chǎn)良率與性能穩(wěn)定性。
產(chǎn)品分類(lèi)
Product classification詳細(xì)介紹
半導(dǎo)體鍍層厚度檢測(cè)分析儀
深圳市天創(chuàng)美科技有限公司銷(xiāo)售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長(zhǎng)色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(jì)(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)等。產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾(貴金屬及鍍層檢測(cè)等)、玩具安全(EN71-3等),有害物質(zhì)(ROHS和鹵素)、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(銅合金、鋁合金、鎂合金等)、冶金(鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等)、地質(zhì)采礦(各種礦石品位檢測(cè)設(shè)備)、塑料(無(wú)鹵測(cè)試等)、石油化工、嶺土、煤炭、食品、空氣、水質(zhì)、土壤、、商品檢驗(yàn)、質(zhì)量檢驗(yàn)、人體微量元素檢驗(yàn)等等。總之銷(xiāo)售的儀器設(shè)備應(yīng)用于元素分析,化合物測(cè)試,電鍍鍍層厚度檢測(cè)。
以下是X熒光光譜儀測(cè)試電鍍鍍層的儀器簡(jiǎn)介:
鍍層檢測(cè):
常見(jiàn)金屬鍍層有:
鍍層
基體 | Ni | Ni-P | Ti | Cu | Sn | Sn-Pb | Zn | Cr | Au | Zn-Ni | Ag | Pd | Rh |
Al | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
Cu | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
Zn | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
Fe | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
SUS | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
單層厚度范圍:
金鍍層0-8um,
鉻鍍層0-15um,
其余一般為0-30um以?xún)?nèi),
可最小測(cè)量達(dá)0.001um。
多層厚度范圍:
Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um Ni分析厚度:0-30um
Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um Ni分析厚度:0-30um
Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um Ni分析厚度:0-30um
鍍層層數(shù)為1-6層
鍍層精度相對(duì)差值一般<5%。
鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。
鍍層分析優(yōu)勢(shì):分析PCB金手指最小尺寸可達(dá)0.2mm
單層分析精度,以Ni舉例:(相對(duì)差值)
Ni層厚度(um) | 保證精度 |
<1.0um | <5% |
1.0-5.0um | <3% |
5.0-10um | <3% |
10-20um | <3% |
>20.0um | <3% |
元素成分分析:
鍍液分析,目前常見(jiàn)鍍液元素分析有:金、銀、錫、銅、鎳、鉻、鋅。
ROHS 和無(wú)鹵檢測(cè),高性能SDD探測(cè)器可以檢測(cè)無(wú)鹵,實(shí)現(xiàn)鍍層與環(huán)保一機(jī)多用。
金屬成分分析,在檢測(cè)ROHS同時(shí)可檢測(cè)金屬中其他各元素成分含量。
檢測(cè)精度:
Cr,Cd,Hg,Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, W, Au, Ag, Sn等重金屬
檢測(cè)限達(dá)1ppm。
對(duì)這些金屬測(cè)試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn):
A. 檢測(cè)含量大于5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于1%
B. 檢測(cè)含量在0.5~5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于2%
C. 檢測(cè)含量在0.1~0.5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于5%
D. 檢測(cè)含量低于0.1%的元素測(cè)試讀取相對(duì)差值變化率小于10%
測(cè)量精度:
1)精度(單層):
測(cè)厚儀的檢測(cè)精度表
Ni層厚度(um) | 精度 |
<1.0um | <5% |
1.0-5.0um | <3% |
5.0-10um | <3% |
10-20um | <3% |
>20.0um | <3% |
測(cè)試方法: 在相同的操作條件下,對(duì)同一標(biāo)準(zhǔn)樣板進(jìn)行5次檢測(cè),檢測(cè)到的平均數(shù)據(jù)與標(biāo)樣板的實(shí)際數(shù)據(jù)作比較。檢測(cè)精度為檢測(cè)平均值與標(biāo)準(zhǔn)樣片實(shí)際值之差(平均誤差)
2)兩層及以上:
兩層及以上的首層精度符合單層的測(cè)試結(jié)果,但是第二層以上比較復(fù)雜,要根據(jù)上面一層的厚度來(lái)決定。在一層厚度小于2um時(shí),一層和二層的測(cè)試精度基本符合單層的精度,參照如下的測(cè)試報(bào)告 一層金標(biāo)樣厚度0.101um,第二層鎳的標(biāo)樣厚度為4.52um。
在 一層厚度在2~5um時(shí)會(huì)大大降低第二層的和第三層的測(cè)試精度,第二層的誤差率會(huì)在5~10%,第三層的誤差率小于15%。
重復(fù)性:
保證重復(fù)性值:≤±5%
重復(fù)性的檢測(cè)應(yīng)在儀器校準(zhǔn)后: 在相同的操作條件下,使用相同的檢測(cè)樣板做連續(xù)重復(fù)檢測(cè),連續(xù)測(cè)量必須在同一檢測(cè)點(diǎn)位置使用一同樣片間隔60秒,測(cè)量一共進(jìn)行10次,每次測(cè)量值與10次平均值進(jìn)行對(duì)比。
重復(fù)性=平均誤差÷平均值×100* %.
半導(dǎo)體鍍層厚度檢測(cè)分析儀
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